3月1日，日本内阁通过了一项发明专利与外观专利的修正案，该修正案有望在2019年年底予以实施。此次修正案的主要内容包括：（i）改进知识产权侵权的诉讼系统；（ii）扩大和改进外观保护系统。

　　其中，知识产权侵权诉讼系统的改进内容主要包括：

　　（a）扩大和改进了秘密审查（in-camera）程序，不仅仅是决定文件所有者是否有足够理由拒绝披露文件，还可以决定这些文件对于证明侵权或者证明侵权损失是否是必要的，另外，法庭对于文件的披露，也可以在双方同意的情况下，披露给专家顾问；

　　（b）建立了一个新的稽核系统（inspection system），该系统允许诉讼中的一方收集必要的证据来证明诉讼相关的事实；

　　（c）改进了计算损失额的方法，修正案规定由于专利所有权人的生成和销售能力有限而不利于计算其损失的利益时，专利所有权人也可以要求基于合理的许可使用费来联合计算其损失额，这有利于中小企业或初创企业在知识产权侵权案件中获得足够的补偿。

　　外观保护系统的改进内容主要包括：

　　（a）扩大外观专利的保护主题，将扩大保护未在产品上显示或记录的图片以及建筑物的外观和内部装饰；

　　（b）修正关联外观系统，将申请关联外观的期限由目前的基础外观注册公告前延长至基础外观专利申请日起的10年内，另外，仅与关联外观相似的外观设计将可能注册；

　　（c）修改外观专利的保护期限，由目前的注册之日起20年修改为申请之日起25年；

　　（d）简化外观申请程序，包括允许多项外观设计申请，以及废除商品类别；

　　（e）添加间接侵权的规定，规定当侵权者明知道商品是在外观产品实施中使用时，进口以及制造被分解成组成部分的侵权产品也将视为侵权。

　　4月1日起，根据修订后的专利法与内阁法令，日本专利局（JPO）实施了新的官费减免政策，降低了符合减免条件的标准，扩大了减免政策的适用范围。同时，为了补偿由于新的减免政策导致的JPO财政收入的减少，自4月1日起，JPO对专利申请中的实审请求费相应地上调了约17%。

　　JPO实行的官费减免政策包括两个体系：

　　（A）微小实体（SMEs）和研发机构（RDEs）的费用减免体系（本次修订添加），适用于在2019年4月1日起提交实审请求的所有发明专利申请。该系统适用于包括海外申请人在内的各种类型的微小实体和研发机构，且无需提供证据；

　　（B）为资金不充足企业提供的官费豁免、减少以及宽限系统（已存在），适用于2014年4月1日起提交实审请求的所有发明专利申请。该系统仅适用于日本国内的申请人，条件较为苛刻，且需要提供证据。

　　JPO官费减免政策适用的官费种类包括：（a）发明专利申请中的请求实审费；（b）发明专利授权后应缴纳的第1年至第10年的年费。

　　关于微小实体（SMEs）和研发机构（RDEs）的费用减免体系，JPO官费减免政策适用的申请人资格以及官费减免情况，如下表所列：

　　例：假设一件包括10项权利要求的PCT申请进入日本国家阶段，且最终授权文本也包含10项权利要求，那么不同类型的申请人需要缴纳的请求实审费与第1年至第10年的年费情况如下：